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1.3μm量子阱LD的工艺研究和特性分析
    • 1.3μm量子阱LD的工艺研究和特性分析

    • 1.3μm量子阱LD的工艺研究和特性分析

    • 光通信研究   1995年第2期
    • 中图分类号: TN365
    • 纸质出版日期:1995,

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  • [1]金锦炎,李同宁,刘涛,李云樵,王任凡,刘自力.1.3μm量子阱LD的工艺研究和特性分析[J].光通信研究,1995(02):53-54. DOI:

    1.3μm量子阱LD的工艺研究和特性分析[J]. 1995,(2). DOI:

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