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Published:1983,
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[1]邓都才.PCVD法的发展现状和前景[J].光通信研究,1983(04):30-46.
PCVD法的发展现状和前景. [J]. (4):30-46(1983)
[1]邓都才.PCVD法的发展现状和前景[J].光通信研究,1983(04):30-46. DOI: 10.13756/j.gtxyj.1983.04.004.
PCVD法的发展现状和前景. [J]. (4):30-46(1983) DOI: 10.13756/j.gtxyj.1983.04.004.
本文综述光纤制造工艺中的PCVD法的原理、发展过程和现状。其中主要叙述荷兰Philips公司发展的微波低压PCVD法。并对其前景作出肯定的评价。对其它的等离子体工艺也作一简介。
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