抗蚀剂组合法制造DFB激光器λ/4相移光栅

杨新民

doi:10.13756/j.gtxyj.1991.04.004

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抗蚀剂组合法制造DFB激光器λ/4相移光栅

- 抗蚀剂组合法制造DFB激光器λ/4相移光栅
- Fabrication ofλ/4-shifted Grating for DFB Lasers by Positive and Negative Photoresist Mothod
- 光通信研究 1991年第4期页码：34-37
- 作者机构：
  
  武汉电信器件公司工程师
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：10.13756/j.gtxyj.1991.04.004
  中图分类号：
- 纸质出版日期：1991，
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[1]杨新民.抗蚀剂组合法制造DFB激光器λ/4相移光栅[J].光通信研究,1991(04):34-37.

Yang Xinming. Fabrication ofλ/4-shifted Grating for DFB Lasers by Positive and Negative Photoresist Mothod[J]. 1991,(4):34-37.
[1]杨新民.抗蚀剂组合法制造DFB激光器λ/4相移光栅[J].光通信研究,1991(04):34-37. DOI： 10.13756/j.gtxyj.1991.04.004.

Yang Xinming. Fabrication ofλ/4-shifted Grating for DFB Lasers by Positive and Negative Photoresist Mothod[J]. 1991,(4):34-37. DOI： 10.13756/j.gtxyj.1991.04.004.

摘要

本文介绍用正、负光致抗蚀剂组合的方法

制造用于DFB激光器λ/4相移光栅的原理及工艺

并给出了研究结果和质量评价。光栅周期为4600A

相移转换区小于3μm。

Abstract

λ/4-shifted grating for DFB lasers has been successfully fabricated by the method of positive and negative photoresist. In this paper

the principle and fabrication process are described in detail

and the results and the quality evaluation are presented. The corrugation periods were about 4600A The quarter-wave phase shift transition width of the gratings were less than 3μm.

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