基于二氧化硅波导的高隔离度滤波器研究

高莉; 洪乾; 尹小杰; 蔡婷

doi:10.13756/j.gtxyj.2026.240196

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基于二氧化硅波导的高隔离度滤波器研究

光电子器件技术 | 更新时间：2026-06-15

- 基于二氧化硅波导的高隔离度滤波器研究
- Research on High Isolation Filter based on Silica Waveguide
- 光通信研究 2026年第3期页码：98-102
- 作者机构：
  
  1.河南仕佳光子科技股份有限公司　河南省光电芯片与集成重点实验室，河南　鹤壁　458030
  2.中国科学院半导体研究所　光电子材料与器件重点实验室，北京　100083
  3.西藏民族大学　信息工程学院，陕西　咸阳　712082
- 作者简介：
  
  高莉（1985-），女，河南鹤壁人。讲师，硕士，研究方向为平面光波导芯片工艺。
  蔡婷，讲师。E-mail：caitingcm@163.com。
- 基金信息：
  
  国家重点研发计划资助项目(2021YB2800201);2023年河南省研究生教改资助项目(2023SJGLX144Y)
- DOI：10.13756/j.gtxyj.2026.240196
  中图分类号： TN713
- 收稿：2024-09-11，
  
  修回：2024-10-29，
  
  纸质出版：2026-06-10
- 稿件说明：
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高莉，洪乾，尹小杰，等. 基于二氧化硅波导的高隔离度滤波器研究[J]. 光通信研究，2026(3): 98-102.

Gao L, Hong Q, Yin X J, et al. Research on High Isolation Filter based on Silica Waveguide[J]. Study on Optical Communications, 2026(3): 98-102.
高莉，洪乾，尹小杰，等. 基于二氧化硅波导的高隔离度滤波器研究[J]. 光通信研究，2026(3): 98-102. DOI： 10.13756/j.gtxyj.2026.240196.

Gao L, Hong Q, Yin X J, et al. Research on High Isolation Filter based on Silica Waveguide[J]. Study on Optical Communications, 2026(3): 98-102. DOI： 10.13756/j.gtxyj.2026.240196.

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DOI：10.13756/j.gtxyj.2026.240196